Осциллирующее поле : 13,56 МГц Энергия ионов : менее 12 эВ Вакуумная система: давление 1 x 10-7 мбар Рабочие газы: 25% кислорода и 75% аргона https://atomstroy-ng.ru/dopoborudovanie
X–6600/X–6600B https://atomstroy-ng.ru/ruchnayagalvanichliniya
Цена по запросу --> Подробнее https://atomstroy-ng.ru/
Выставки по оборудованию микроэлектроники https://atomstroy-ng.ru/centrifuginaneseniyafotorezistera
Полуавтоматическая установка для равномерной сушки фоторезиста https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii
Установка для ПХ зачистки поверхности CRF-VPO-100L использует методику плазменной очистки https://atomstroy-ng.ru/mikroelektronika
Сферы её применения: упаковка полупроводников, производство гибких печатных плат, энергетика, машиностроение, производство различных электронных устройств, медицинского оборудования и инструментов https://atomstroy-ng.ru/avtomatichultrazvuklinii
ГАБАРИТНЫЙ ЧЕРТЁЖ ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ Обрабатываемые изделия подложки, корпуса и рамки микросхем Объём реактивной камеры, л 100 Габаритные размеры установки, мм 990 х 1100 х 1708 ]
|
Добавить объявление
Связаться с нами
